芯片工艺大步迈进：三星电子官宣2nm制程，2025年才能量产

下，当然这主要是生所产难度太大，ASML自己也很头疼，华为电子至少要在2024年才能摘下这一光刻机，前期但会主要用于研究工作。

不过在ASML光刻机部分，Intel则但会相媲美华为电子，Intel是首个摘下ASML High-NA EUV光刻机的大厂，也但会是行业第一个调遣这一光刻机的大厂，当然主要是为了Intel 4之后的材料继续做作准备。当然这一光刻机以外也只有Intel、华为电子和华为订购，其他ROM经销厂从未这个打算，一个是成本或许太较高，另外也是自己较高效率跟不上。

至于全国性，以外连ASML的EUV光刻机都拿将近，很难在ROM材料上和海外几个大厂相比之下，DUV光刻机有一点能摘下，不过适用这一光刻机，能只能彻底解决7nmROM都很难，无论如何像之中芯国际以外都还没人较高能量所产12nmROM。至于国所产光刻机，以外据说可以解决28nmROM，但良率和较高效率成本这些都从未发布，作为ROM大厂来说，从商业角度出发，也不可能将其作为主要光刻机来调遣。

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